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PräzisionImFokus

Fotomaskeninspektion

Partikelerkennung für höhere Erträge

Partikelkontamination kann den fotolithografischen Prozess stören und verlangsamen und somit zu Ertrags- und Produktivitätseinbußen führen. Um dies zu verhindern, müssen Masken laufend überprüft werden.

Die Lösung: Pollux - das automatische Partikelerkennungssystem von Dr. Schenk. Pollux erlaubt Herstellern die vollständige Inspektion jeder Maske noch vor deren Gebrauch. Dieser Ansatz bietet eine kostenwirksamere und zuverlässigere Lösung als die Methode der visuellen Inspektion.

Anwendungsbereiche

Pollux wurde speziell für die Integration in die folgenden Bereiche entwickelt:

  • Fotomaskenlagerung
  • Wafer-Stepper
  • Reinigungsstationen
  • Automatische Handhabungssysteme
  • Eigenständige Einheit mit manueller Beladung

Vorteile

  • Kostenwirksam
  • Einfache Bedienung
  • Hohe Arbeitsgeschwindigkeit
  • Geringer Wartungsaufwand

Pollux bietet

  • Hohe Rentabilität
  • Geringe Kapitalinvestition
  • Geringe Betriebskosten Pollux

Führt zu

  • Prozessoptimierung
  • Ertragssteigerung
  • Kostensenkung

Spezifikation

Pollux untersucht die Oberfläche der Glas-Seite, sowie die Pellikel-Oberfläche der verchromten Seite auf Abweichungen in der Größenordnung des Äquivalentdurchmessers von nicht weniger als 5/10 µm. Pollux erkennt partikuläre Kontamination und Fehler wie Kratzer in Glasflächen und Löcher in dem Pellikel.

Jede Produktionsstätte kann den jeweiligen Schwellwert eigenständig und gemäß der Mindestgröße der entsprechend bedeutenden Partikel bestimmen. Pollux bietet die ausgesprochen zuverlässige Kontaminationskontrolle des Lithographie-Prozesses - unabhängig davon, ob ein Bediener eine visuelle Inspektion durchführt oder nicht.

Pollux bestimmt automatisch die Rahmenhöhe und den Inspektionsbereich. Dies erfordert keinerlei manuelles Einstellen, um das System an die zu prüfende Fotomaske anzupassen.

Die Taktzeit liegt im Mittel zwischen 45 und 70 Sekunden!

Optikschema

Pollux basiert auf dem Prinzip einer Dunkelfeld-Laserinspektion. Höchstempfindliche CCD-Abtastlinienkameras fangen das an Abweichungen gestreute Licht auf. Der Größe der erkannten Partikel wird anhand der Anzahl und der Intensität der hellen Pixel bestimmt.

Präsentation der Ergebnisse

Pollux bietet eine anwenderfreundliche grafische Benutzeroberfläche gemäß SEMI-Standards. Pollux weist auf die Anzahl der erkannten Partikel an der Oberfläche beider Seiten der Fotomaske hin. Daten über Kontamination, darunter die Anzahl der erkannten Partikel, ESD-Größe und XY-Koordinaten, werden in einer Fehlerübersicht, einer Fehlertabelle und einem Fehlergrößen-Histogramm angezeigt und verschaffen somit einen schnellen Überblick.

Optionen

  • Montage-Sensor - prüft, ob die Fotomaske ordnungsgemäß verstaut ist
  • Fotomasken-Lichtschranke - stellt sicher, dass sich eine Fotomaske auf dem Gestell befindet
  • Hellfeld-Erkennung - zur Inspektion von Löchern in dem Pellikel

Zusammenfassung

Pollix ist ein einzigartiges Tool, das objektive Auswertedaten zur Entscheidung über Bestanden/Nicht-bestanden von lithografischen Fotomasken liefert. Mit seinen niedrigen Betriebskosten, dem geringen Platzbedarf und der hohen Arbeitsgeschwindigkeit ist Pollux die ideale Lösung für die 100% Inspektion sämtlicher Fotomasken in der Wafer-Herstellung. Zudem bietet Pollux in sämtlichen Anwendungen Raum für Prozessoptimierung und Ertragssteigerungen, bei denen Fotomasken verarbeitet werden.

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